Composition for forming pattern, and pattern forming method

WO2018008481 Art A1 11. Januar 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018008481
Aktenzeichen: EP17824087
Anmeldetag: 27. Juni 2017
Veröffentlichung: 11. Januar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C08L53/00B82Y30/00B82Y40/00C08F297/02C08K5/10C08L25/04H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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