Cluster ion beam generation method and cluster ion beam irradiation method using same

WO2018008533 Art A1 11. Januar 2018

Anmelder: SUMCO Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018008533
Aktenzeichen: EP17824138
Anmeldetag: 29. Juni 2017
Veröffentlichung: 11. Januar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/32H01L21/20H01L21/265H01L21/322

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SUMCO Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumco

Sumco ist ein japanischer Hersteller von Siliziumwafern für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich entsprechend auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von