Photosensitive conductive film, method for manufacturing conductive pattern, conductive pattern substrate, and touch panel sensor

WO2018008599 Art A1 11. Januar 2018

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018008599
Aktenzeichen: EP17824202
Anmeldetag: 3. Juli 2017
Veröffentlichung: 11. Januar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G06F3/041G06F3/044H05K3/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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