Film-forming composition, film formation method, and directed self-assembly lithography process
WO2018008734
Art A1
11. Januar 2018
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018008734
- Aktenzeichen
- EP17824337
- Anmeldetag
- 6. Juli 2017
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09D201/02C08F220/12H01L21/027H01L21/3065H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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