Resist Underlayer Film Forming Composition Containing Compound Having Hydantoin Ring

WO2018012253 Art A1 18. Januar 2018

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018012253
Aktenzeichen: EP17827383
Anmeldetag: 23. Juni 2017
Veröffentlichung: 18. Januar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C07C43/13C07D251/34C07D403/14C08L65/00G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von