Slurry for suspension plasma spraying, method for forming rare earth acid fluoride sprayed film, and spraying member

WO2018012454 Art A1 18. Januar 2018

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018012454
Aktenzeichen: EP17827581
Anmeldetag: 10. Juli 2017
Veröffentlichung: 18. Januar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C4/10C01F17/00C23C4/134

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von