Radiation sensitive resin composition and resist pattern forming method

WO2018012472 Art A1 18. Januar 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018012472
Aktenzeichen: EP17827599
Anmeldetag: 10. Juli 2017
Veröffentlichung: 18. Januar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/10G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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