Lithography optics adjustment and monitoring

WO2018013355 Art A1 18. Januar 2018

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018013355
Aktenzeichen: EP17828175
Anmeldetag: 29. Juni 2017
Veröffentlichung: 18. Januar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03B27/02G03B7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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