Defect inspection device for wide-gap semiconductor substrate
WO2018016154
Art A1
25. Januar 2018
Anmelder: Toray Engineering Co. Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018016154
- Aktenzeichen
- EP17830674
- Anmeldetag
- 8. Mai 2017
- Veröffentlichung
- 25. Januar 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66G01N21/88
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Toray Engineering Co. Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toray Engineering
Toray Engineering ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toray-Konzerns und stellt Fertigungsanlagen für Halbleiter- und Displayproduktion her. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Verfahrens- und Trenntechnik, ergänzt um Elektronik. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2025.
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