Photomask, method for manufacturing photomask, and method for manufacturing color filter using photomask
WO2018016485
Art A1
25. Januar 2018
Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018016485
- Aktenzeichen
- EP17831001
- Anmeldetag
- 18. Juli 2017
- Veröffentlichung
- 25. Januar 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/70G02B5/20G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Toppan Printing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toppan Printing
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
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