Compound, resin, composition, resist pattern formation method, and circuit pattern formation method

WO2018016640 Art A1 25. Januar 2018

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018016640
Aktenzeichen: EP17831156
Anmeldetag: 21. Juli 2017
Veröffentlichung: 25. Januar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C07C43/215C07C39/15C07C43/20C07C43/205C07D311/78C07D311/82C08F12/22C08G8/04C08G8/20C08G8/36G03F7/031G03F7/11G03F7/26H01L21/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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