Gas sprayer for substrate treatment device, and substrate treatment device
WO2018016802
Art A1
25. Januar 2018
Anmelder: Jusung Engineering Co., Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018016802
- Aktenzeichen
- EP17831275
- Anmeldetag
- 14. Juli 2017
- Veröffentlichung
- 25. Januar 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02H01L21/683H05H1/46H01L21/687H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Jusung Engineering Co., Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Jusung Engineering
Jusung Engineering ist ein südkoreanischer Hersteller von Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleitertechnik, ergänzt durch Metallurgie und Elektronik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.
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