Deposition of flowable silicon-containing films

WO2018017684 Art A1 25. Januar 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018017684
Aktenzeichen: EP17831769
Anmeldetag: 19. Juli 2017
Veröffentlichung: 25. Januar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/30C23C16/40C23C16/36C23C16/34C23C16/32C23C16/50C23C16/56H01L21/762H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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