Level sensor apparatus, method of measuring topographical variation across a substrate, method of measuring variation of a physical parameter related to a lithographic process, and lithographic apparatus

WO2018019496 Art A1 1. Februar 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018019496
Aktenzeichen: EP17732118
Anmeldetag: 22. Juni 2017
Veröffentlichung: 1. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von