Substrate treating device, method for manufacturing semiconductor device, and program

WO2018020590 Art A1 1. Februar 2018

Anmelder: Kokusai Electric Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018020590
Aktenzeichen
EP16910493
Anmeldetag
26. Juli 2016
Veröffentlichung
1. Februar 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/31C23C16/44H01L21/02H01L21/312
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Kokusai Electric Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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