Pattern measurement method and pattern measurement device

WO2018020627 Art A1 1. Februar 2018

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018020627
Aktenzeichen: EP16910530
Anmeldetag: 28. Juli 2016
Veröffentlichung: 1. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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