Laser annealing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and method for crystallizing amorphous silicon

WO2018020918 Art A1 1. Februar 2018

Anmelder: The Japan Steel Works, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018020918
Aktenzeichen: EP17833927
Anmeldetag: 22. Juni 2017
Veröffentlichung: 1. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/268G02F1/1368H01L21/20H01L21/336H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The Japan Steel Works, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 The Japan Steel Works

The Japan Steel Works ist ein japanischer Maschinenbaukonzern, unter anderem für Spritzgießmaschinen und Stahlkomponenten. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt um Fertigungstechnik. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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