Gas purge system and method for outgassing control
WO2018022137
Art A1
1. Februar 2018
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018022137
- Aktenzeichen
- EP17834887
- Anmeldetag
- 24. Januar 2017
- Veröffentlichung
- 1. Februar 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/67H01L21/324H01L21/02H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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