Performing Decoupled Plasma Fluorination To Reduce Interfacial Defects in Film Stack

WO2018022142 Art A1 1. Februar 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018022142
Aktenzeichen: EP17834890
Anmeldetag: 27. Januar 2017
Veröffentlichung: 1. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/324

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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