Extreme ultraviolet mask blank with multilayer absorber and method of manufacture

WO2018022371 Art A1 1. Februar 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018022371
Aktenzeichen: EP17834989
Anmeldetag: 19. Juli 2017
Veröffentlichung: 1. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/22G03F1/50G03F7/20G03F7/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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