Plasma source and semiconductor processing device

WO2018023901 Art A1 8. Februar 2018

Anmelder: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018023901
Aktenzeichen
EP16911496
Anmeldetag
23. November 2016
Veröffentlichung
8. Februar 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/67H05H1/28
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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