Konditionierverfahren für einen Cvd-Reaktor

WO2018024698 Art A1 8. Februar 2018

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018024698
Aktenzeichen: EP17752046
Anmeldetag: 1. August 2017
Veröffentlichung: 8. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C26/00H01L31/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von