Production method for silicon wafer rough-polishing composition, silicon wafer rough-polishing composition set, and silicon wafer polishing method
WO2018025656
Art A1
8. Februar 2018
Anmelder: Fujimi Incorporated 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018025656
- Aktenzeichen
- EP17836762
- Anmeldetag
- 21. Juli 2017
- Veröffentlichung
- 8. Februar 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujimi Incorporated
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujimi
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.