Production method for silicon wafer rough-polishing composition, silicon wafer rough-polishing composition set, and silicon wafer polishing method

WO2018025656 Art A1 8. Februar 2018

Anmelder: Fujimi Incorporated 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018025656
Aktenzeichen
EP17836762
Anmeldetag
21. Juli 2017
Veröffentlichung
8. Februar 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Fujimi Incorporated
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujimi

Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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