Alignment mark recovery method and lithographic apparatus

WO2018028880 Art A1 15. Februar 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018028880
Aktenzeichen: EP17734310
Anmeldetag: 30. Juni 2017
Veröffentlichung: 15. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00H01L23/544

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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