Optical system and method for correcting mask defects using the system

WO2018029184 Art A1 15. Februar 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMS Ltd. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018029184
Aktenzeichen: EP17755099
Anmeldetag: 8. August 2017
Veröffentlichung: 15. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/72G02B21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMS Ltd.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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