Photocurable composition and method for manufacturing semiconductor device

WO2018030198 Art A1 15. Februar 2018

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018030198
Aktenzeichen: EP17839271
Anmeldetag: 31. Juli 2017
Veröffentlichung: 15. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C08G59/14C08G59/68G03F7/11G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von