Substrate processing device and substrate processing method

WO2018030357 Art A1 15. Februar 2018

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018030357
Aktenzeichen: EP17839428
Anmeldetag: 7. August 2017
Veröffentlichung: 15. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: B65H26/00B65G49/06B65H23/188G03F7/20G03F7/24H01L21/677H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verpackungs- & Fördertechnik

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