Chemically amplified resist material, and method for forming resist pattern

WO2018030445 Art A1 15. Februar 2018

Anmelder: Osaka University, Tokyo Electron Limited, JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018030445
Aktenzeichen: EP17839513
Anmeldetag: 8. August 2017
Veröffentlichung: 15. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C09K3/00G03F7/039G03F7/20G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Osaka University
Tokyo Electron Limited
JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

1.047 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik

Vertreten von