Soft x-ray source, exposure apparatus, and microscope

WO2018034020 Art A1 22. Februar 2018

Anmelder: Tohoku University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018034020
Aktenzeichen: EP17841248
Anmeldetag: 28. März 2017
Veröffentlichung: 22. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K5/02G21K7/00H05G2/00H05H1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tohoku University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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