Method for manufacturing sample for thin film property measurement and analysis, and sample manufactured thereby

WO2018034437 Art A1 22. Februar 2018

Anmelder: Seoul National University R & DB Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018034437
Aktenzeichen: EP17841620
Anmeldetag: 21. Juli 2017
Veröffentlichung: 22. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G01N1/28G01N1/36H01L21/306H01L29/16H01L21/205H01L21/66H01L21/033

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Seoul National University R & DB Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Seoul National University R&DB Foundation

Technologietransfer- und Forschungsförderungsstiftung der Seoul National University in Südkorea. Sie verwaltet und vermarktet die an der Universität entstandenen Forschungsergebnisse und Patente.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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