High density, low stress amorphous carbon film, and process and equipment for its deposition

WO2018034811 Art A1 22. Februar 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018034811
Aktenzeichen: EP17841832
Anmeldetag: 26. Juli 2017
Veröffentlichung: 22. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/06C23C14/35C23C14/34H01J37/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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