Method and apparatus for controlling gas flow to a process chamber

WO2018034933 Art A1 22. Februar 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018034933
Aktenzeichen: EP17841890
Anmeldetag: 10. August 2017
Veröffentlichung: 22. Februar 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/52C23C16/455C23C16/54B01J4/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.780 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von