Method for removing impurities

WO2018037504 Art A1 1. März 2018

Anmelder: Chiyoda Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018037504
Aktenzeichen: EP16914178
Anmeldetag: 24. August 2016
Veröffentlichung: 1. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: B01D53/18B01D47/02B01D47/04B01D53/50B01D53/68B01D53/78

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Chiyoda Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Chiyoda

Chiyoda ist ein japanisches Ingenieur- und Anlagenbauunternehmen mit Sitz in Yokohama, das Anlagen für die Öl-, Gas- und Chemieindustrie plant und errichtet. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Verfahrens- und Trenntechnik sowie anorganische und organische Chemie, unter anderem im Bereich Flüssiggasverfahren. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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