Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active light-sensitive or radiation-sensitive film, pattern-forming method, method for producing electronic devices, compound, and resin

WO2018037763 Art A1 1. März 2018

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018037763
Aktenzeichen: EP17843250
Anmeldetag: 14. Juli 2017
Veröffentlichung: 1. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F20/26G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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