Mask blank, phase shift mask, method for manufacturing phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2018037864 Art A1 1. März 2018

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018037864
Aktenzeichen: EP17843350
Anmeldetag: 2. August 2017
Veröffentlichung: 1. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32G03F1/26G03F1/58H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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