Led epitaxial wafer grown on scandium magnesium aluminum oxide substrate and preparation method therefor
WO2018040123
Art A1
8. März 2018
Anmelder: South China University of Technology 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018040123
- Aktenzeichen
- EP16914687
- Anmeldetag
- 10. September 2016
- Veröffentlichung
- 8. März 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L33/00H01L33/32H01L33/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- South China University of Technology
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
South China University of Technology
Chinesische Universität mit Sitz in Guangzhou, die als Anmelderin von Patenten aus ihrer technischen und naturwissenschaftlichen Forschung auftritt. Schwerpunkte liegen unter anderem in Materialwissenschaft und Maschinenbau.
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