Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
WO2018042541
Art A1
8. März 2018
Anmelder: Osaka University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018042541
- Aktenzeichen
- EP16915102
- Anmeldetag
- 31. August 2016
- Veröffentlichung
- 8. März 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/78H01L21/28H01L21/316H01L21/336H01L29/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Osaka University
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Osaka University
Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.
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