Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method and method for manufacturing electronic device

WO2018042892 Art A1 8. März 2018

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018042892
Aktenzeichen: EP17845902
Anmeldetag: 11. Juli 2017
Veröffentlichung: 8. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/28G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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