Stage device and charged particle beam device

WO2018042897 Art A1 8. März 2018

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018042897
Aktenzeichen: EP17845907
Anmeldetag: 12. Juli 2017
Veröffentlichung: 8. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20B23Q1/72G12B5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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