Pattern forming method, active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film and method for manufacturing electronic device

WO2018042956 Art A1 8. März 2018

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018042956
Aktenzeichen: EP17845965
Anmeldetag: 26. Juli 2017
Veröffentlichung: 8. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F220/18G03F7/038G03F7/039G03F7/20G03F7/32C09K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.752 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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