Method for manufacturing through electrode substrate, through electrode substrate, and semiconductor device
WO2018043106
Art A1
8. März 2018
Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018043106
- Aktenzeichen
- EP17846114
- Anmeldetag
- 14. August 2017
- Veröffentlichung
- 8. März 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C03B33/09B23K26/382C03C15/00C03C23/00H01L23/15H01L23/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dai Nippon Printing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dai Nippon Printing
Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.
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Vertreten von
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