Method for manufacturing through electrode substrate, through electrode substrate, and semiconductor device

WO2018043106 Art A1 8. März 2018

Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018043106
Aktenzeichen
EP17846114
Anmeldetag
14. August 2017
Veröffentlichung
8. März 2018
Rechtsraum
WO
IPC
C03B33/09B23K26/382C03C15/00C03C23/00H01L23/15H01L23/32
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Dai Nippon Printing

Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.

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