Selective modification method for base material surfaces and composition

WO2018043304 Art A1 8. März 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018043304
Aktenzeichen: EP17846309
Anmeldetag: 24. August 2017
Veröffentlichung: 8. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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