Base material surface selective modification method and composition

WO2018043305 Art A1 8. März 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018043305
Aktenzeichen: EP17846310
Anmeldetag: 24. August 2017
Veröffentlichung: 8. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/312B05D3/02B05D7/00H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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