Negative photosensitive resin composition, photosensitive resist film, pattern forming method, cured film, and production method for cured film

WO2018043395 Art A1 8. März 2018

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018043395
Aktenzeichen: EP17846400
Anmeldetag: 28. August 2017
Veröffentlichung: 8. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08K3/22C08K5/49C08K5/55C08L63/00G03F7/038G03F7/075G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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