Resist Underlayer Film Forming Composition Containing Triaryldiamine-Containing Novolac Resin

WO2018043410 Art A1 8. März 2018

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018043410
Aktenzeichen: EP17846415
Anmeldetag: 28. August 2017
Veröffentlichung: 8. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G12/08G03F7/20G03F7/40H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von