Processing liquid, substrate cleaning method, and method for producing semiconductor devices

WO2018043440 Art A1 8. März 2018

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018043440
Aktenzeichen: EP17846445
Anmeldetag: 29. August 2017
Veröffentlichung: 8. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/26C11D7/32C11D7/34C11D7/36C11D7/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.752 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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