Radiation sensitive composition and pattern forming method

WO2018043506 Art A1 8. März 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018043506
Aktenzeichen: EP17846511
Anmeldetag: 29. August 2017
Veröffentlichung: 8. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/20G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von