Non-Magnetic Material-Dispersed Fe-Pt Sputtering Target
WO2018043680
Art A1
8. März 2018
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018043680
- Aktenzeichen
- EP17846683
- Anmeldetag
- 31. August 2017
- Veröffentlichung
- 8. März 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34B22F1/00C22C5/04C22C28/00C22C38/00G11B5/64G11B5/851B22F3/14B22F3/15
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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