Composition, modification method and selective modification method for substrate surfaces, pattern formation method, and polymer

WO2018043729 Art A1 8. März 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018043729
Aktenzeichen: EP17846732
Anmeldetag: 1. September 2017
Veröffentlichung: 8. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C08L101/04B05D3/02B05D7/14B05D7/24C08F12/20C08F20/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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