Chalcogenide film, device including, and method of forming the same

WO2018044237 Art A1 8. März 2018

Anmelder: Nanyang Technological University 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018044237
Aktenzeichen: EP17847099
Anmeldetag: 31. August 2017
Veröffentlichung: 8. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L31/0264C23C16/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nanyang Technological University
Land: 🇸🇬 Singapur

🇸🇬 Nanyang Technological University

Die Nanyang Technological University ist eine staatliche Forschungsuniversität in Singapur, die in den Bereichen Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologie international hoch angesehen ist.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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